明日を支える新素材の開発をサポートします。

永年の実績と絶え間ない自社技術の研究・開発に加え、海外[A.E.T社(仏)、P.V.A社(独)、Cremer社(独)]からの技術導入により新素材の研究から製造までの幅広い技術を提供いたします。

主要業界

  • 電子部品/半導体
  • 太陽電池
  • 強磁性体/水素吸着
  • 電線
  • 燃料電池
  • 医薬品
  • 光学機器
  • 触媒
  • 研磨剤
  • 超高純度製錬
  • 素材/原料製造
  • 宇宙開発
  • 官庁/大学研究室

バッチ炉

超高速昇温電気炉/SF

<最高使用温度 1,700℃>
オプション 1,800℃仕様
大気中、素早く昇温でき、作業能率の良い、コンパクトな研究開発実験炉。

大型高速昇温電気炉/HLF

<最高使用温度 1,700℃>
オプション 1,800℃仕様
大気中、大型炉で温度分布が良い研究開発・生産炉。

超高速高温溶解炉/RMF

<最高使用温度 1,650℃>
エレベーター方式で、便利な卓上型として開発された研究開発炉、不活性ガスが導入でき、ガラス・金属等の溶解に最適。

高速昇温雰囲気炉/HAF

<最高使用温度 1,700℃>
オプション 1,800℃仕様
各種雰囲気が手軽に得られる研究開発・生産炉、大型炉もあります。

大型エレベーター式電気炉/HPF

<最高使用温度 1,700℃>
大型化、均熱を目標として開発されたエレベーター式電気炉です。多量に焼成、高温下で広範囲に均熱性が得られ研究、生産用としてすぐれた性能を発揮します。

多目的雰囲気炉/PVF

<最高使用温度 1,150℃>
マッフルを用いた完全密封タイプ、真空・酸化・還元・不活性ガス雰囲気が得られ、多目的用途に使用できる雰囲気炉。

高温真空炉/SVF

<最高使用温度 2,200℃>
金属ヒーターを採用し、真空・還元・不活性ガス雰囲気中で、熱処理ができる研究開発・生産炉。

高温雰囲気炉/CVF

<最高使用温度 2,200℃>
カーボンヒーターを採用し、真空・還元・不活性ガス雰囲気中で、熱処理ができる研究開発・生産炉。

雰囲気ホットプレス炉/AHP

<最高使用温度 2,300℃>
最高プレス圧 10Ton
カーボンヒーターを採用し、真空・還元・不活性ガス雰囲気中、高温下でプレスできる研究開発・生産炉。

加圧焼結炉/CMO

<最高使用温度 1,700℃>
還元性から酸化性まで幅広い加圧雰囲気下で使用出来る焼結炉です。 0.9MPaまで加圧出来ます。大型化が可能です。

バッチ式ロータリーチューブ炉/B-RTF

<最高使用温度 1,000℃>
金属・セラミックス等の各種粉体を酸化・還元・不活性ガス雰囲気中で長時間焼成する事が出来ます。

集光炉/OHS

<最高使用温度 1,100℃>
反射モジュールとハロゲンヒーターで急速加熱・冷却を実現!

連続炉

ロータリーチューブ炉/RTF

<最高使用温度 1,600℃>
粉体の熱処理に最適な連続炉、熱処理時間の短縮ができ、各種粉体の試作・生産に最適。

雰囲気ロータリーチューブ炉/A-RTF

<最高使用温度 1,600℃>
H2 、N2 ガス雰囲気中で各種粉体を均一に連続熱処理出来ます。

ウォーキングビーム炉/WBF

クレマー社(ドイツ)より技術導入の電気加熱式ウォーキングビーム炉、世界各国に豊富な納入実績があります。

ローラーハース炉/RHF

入側置換室、予熱、加熱、徐冷、冷却、出側置換室、リターンテーブルから構成され、高温雰囲気での焼成が可能です。

ロータリーハース炉/RF

ロータリーハース式連続炉と産業ロボットから構成され、乾式分析の熔解作業の環境改善、省力化、正確度向上を実現しました。

プッシャー炉/PF

本設備はトレイバッチ式自動搬送により、無人連続操業に適した結合材除去、及び焼結用プッシャー式連続炉です。

製品・機器に関するお問合せ

機器事業部
TEL. 078-306-2980