新素材開発装置 装置紹介

最先端の仕様にも対応

要求仕様に応じ他社にない、世界に類を見ない製品に仕上げます。 新素材の研究から量産製造までを丁寧にサポートします。

ハイスペック仕様に対応

低温から高温(100℃~2,400℃)まで対応します。また、高真空から加圧、アルゴン・水素など不活性、還元性雰囲気など希望雰囲気に対応します。

製造ラインにフィット

卓上型から大型まで、製造現場にフィットしたバッチ炉や連続炉に対応します。またロボットを使用した処理物の装入や取り出しのハンドリングに対応します。

バッチ炉

超高速昇温電気炉SF

超高速昇温電気炉/SF

<最高使用温度 1,700℃>
オプション 1,800℃仕様
大気中、素早く昇温でき、作業能率の良い、コンパクトな研究開発実験炉です。

大型高速昇温電気炉HLF

大型高速昇温電気炉/HLF

<最高使用温度 1,700℃>
オプション 1,800℃仕様
大気中、大型炉で温度分布が良い研究開発・生産炉です。

超高速高温溶解炉RMF

超高速高温溶解炉/RMF

<最高使用温度 1,650℃>
エレベーター方式で、便利な卓上型として開発された研究開発炉です。不活性ガスが導入でき、ガラス・金属などの溶解に最適です。

高速昇温雰囲気炉HAF

高速昇温雰囲気炉/HAF

<最高使用温度 1,700℃>
オプション 1,800℃仕様
各種雰囲気が手軽に得られる研究開発・生産炉です。大型炉もあります。

大型エレベーター式電気炉HPF

大型エレベーター式電気炉/HPF

<最高使用温度 1,700℃>
大型化、均熱を目標として開発されたエレベーター式電気炉です。多量に焼成でき、高温下で広範囲に均熱性が得られ研究・生産用としてすぐれた性能を発揮します。

多目的雰囲気炉PVF

多目的雰囲気炉/PVF

<最高使用温度 1,150℃>
マッフルを用いた完全密封タイプ、真空・酸化・還元・不活性ガス雰囲気が得られ、多目的用途に使用できる雰囲気炉です。

高温真空炉SVF

高温真空雰囲気炉/SVF

<最高使用温度 2,200℃>
金属ヒーターを採用し、真空・還元・不活性ガス雰囲気中で熱処理ができる研究開発・生産炉です。

高温雰囲気炉CVF

高温真空雰囲気炉/CVF

<最高使用温度 2,200℃>
カーボンヒーターを採用し、真空・還元・不活性ガス雰囲気中で熱処理ができる研究開発・生産炉です。

雰囲気ホットプレス炉AHP

雰囲気ホットプレス炉/AHP

<最高使用温度 2,300℃>
カーボンヒーターを採用し、真空・還元・不活性ガス雰囲気中、高温下でプレスできる研究開発・生産炉です。

加圧焼結炉CMO

加圧焼結炉/CMO

<最高使用温度 1,700℃>
還元性から酸化性まで幅広い加圧雰囲気下で使用できる焼結炉です。大型化が可能です。

バッチ式ロータリーチューブ炉B-RTF

バッチ式ロータリーチューブ炉/B-RTF

<最高使用温度 1,000℃>
金属・セラミックスなどの各種粉体を酸化・還元・不活性ガス雰囲気中で長時間焼成することができます。

集光炉OHS

集光炉/OHS

<最高使用温度 1,100℃>
反射モジュールとハロゲンヒーターで急速加熱・冷却を実現します。

連続炉

ロータリーチューブ炉RTF

ロータリーチューブ炉/RTF

<最高使用温度 1,600℃>
粉体の熱処理に最適な連続炉です。熱処理時間の短縮ができ、各種粉体の試作・生産に最適です。

雰囲気ロータリーチューブ炉A-RTF

雰囲気ロータリーチューブ炉/A-RTF

<最高使用温度 1,600℃>
H2・N2 ガス雰囲気中で各種粉体を均一に連続熱処理できます。

ウォーキングビーム炉WBF

ウォーキングビーム炉/WBF

クレマー社(ドイツ)より技術導入の電気加熱式ウォーキングビーム炉です。世界各国に豊富な納入実績があります。

ローラーハース炉RHF

ローラーハース炉/RHF

入側置換室・予熱・加熱・徐冷・冷却・出側置換室・リターンテーブルから構成され、高温雰囲気での焼成が可能です。

ロータリーハース炉RF

ロータリーハース炉/RF

ロータリーハース式連続炉と産業ロボットから構成され、乾式分析の熔解作業の環境改善・省力化・正確度向上を実現しました。

プッシャー炉PF

プッシャー炉/PF

本設備はトレイバッチ式自動搬送により、無人連続操業に適した結合材除去及び焼結用プッシャー式連続炉です。

装置設計

自社設計装置なので細かな仕様変更が可能です。

搬送装置の調整

お客様の製造ラインに合わせた調整を行います。

チーム

プロジェクトによりチーム編成を変え柔軟に、最速で完遂します。